東京電子推新型半導(dǎo)體清洗機(jī) 可防芯片結(jié)構(gòu)遭破壞
來源:新華社 作者:喬民 發(fā)布時(shí)間:2020-12-25 16:44:23
摘要
【東京電子推新型半導(dǎo)體清洗機(jī) 可防芯片結(jié)構(gòu)遭破壞】日媒稱,日本大型半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商?hào)|京電子宣布,將于2021年1月發(fā)售清洗機(jī)“CELLESTA SCD”,該產(chǎn)品帶干燥功能,可提高最尖端半導(dǎo)體的成品率。通過增加使用“超臨界流體”(基本沒有表面張力)的干燥工序,防止半導(dǎo)體上的微細(xì)結(jié)構(gòu)被破壞。這款清洗機(jī)將用于“微細(xì)化”和“多層化”的最尖端半導(dǎo)體制造,“微細(xì)化”是縮小電路線寬,“多層化”是在高度方向上層疊電路。(新華社)
【東京電子推新型半導(dǎo)體清洗機(jī) 可防芯片結(jié)構(gòu)遭破壞】日媒稱,日本大型半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商?hào)|京電子宣布,將于2021年1月發(fā)售清洗機(jī)“CELLESTA SCD”,該產(chǎn)品帶干燥功能,可提高最尖端半導(dǎo)體的成品率。通過增加使用“超臨界流體”(基本沒有表面張力)的干燥工序,防止半導(dǎo)體上的微細(xì)結(jié)構(gòu)被破壞。這款清洗機(jī)將用于“微細(xì)化”和“多層化”的最尖端半導(dǎo)體制造,“微細(xì)化”是縮小電路線寬,“多層化”是在高度方向上層疊電路。(新華社)
日媒稱,日本大型半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商?hào)|京電子宣布,將于2021年1月發(fā)售清洗機(jī)“CELLESTA SCD”,該產(chǎn)品帶干燥功能,可提高最尖端半導(dǎo)體的成品率。通過增加使用“超臨界流體”(基本沒有表面張力)的干燥工序,防止半導(dǎo)體上的微細(xì)結(jié)構(gòu)被破壞。這款清洗機(jī)將用于“微細(xì)化”和“多層化”的最尖端半導(dǎo)體制造,“微細(xì)化”是縮小電路線寬,“多層化”是在高度方向上層疊電路。
據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》網(wǎng)站12月18日?qǐng)?bào)道,新產(chǎn)品在東京電子的枚葉式清洗機(jī)CELLESTA系列中配備了超臨界干燥專用反應(yīng)室,將用于制造結(jié)構(gòu)不斷微細(xì)化、復(fù)雜化的邏輯半導(dǎo)體及個(gè)人電腦等使用的半導(dǎo)體存儲(chǔ)器DRAM。
報(bào)道稱,通過使用超臨界流體,可以降低干燥時(shí)微細(xì)圖案結(jié)構(gòu)被液體表面張力破壞的風(fēng)險(xiǎn)。新產(chǎn)品在干燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。
(文章來源:新華社)
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